INFICON 新型UL3000 Fab 为半导体制造定义了全新的检测标准

INFICON UL3000 Fab 是一种新式氦气检漏仪，用于满足半导体制造中的泄漏检测要求。INFICON UL3000 Fab 能够快速、可靠地检测半导体处理室的泄漏问题。这款检漏仪以氦气作为示踪气体，可检测到的最小泄漏率为 5 x 10^-12 atm cc/s，能够有效确认真空晶片加工室的密闭性能。

UL3000 Fab 极度稳定并易于操控。纤薄的可移动设计与坚固的耐用结构使其能在各种检测区内通行无阻。发现泄漏后，可以显示在 UL3000 Fab 用户友好型旋转式触摸屏上，通过新式的菜单结构与直观的用户界面轻松进行操作。也可以通过移动设备访问菜单 - 毫不费力地对仪器进行远程控制，尤其当空间狭小，在距离晶片加工室较远的地方操作检漏仪时。UL3000 Fab 还具有 I·Zero 2.0 功能，可以在不影响测试的精准度和可靠性的情况下抑制检测对象内的氦本底，从而快速启动泄漏检测。

UL3000 Fab 利用真空喷氦试验，保证晶片加工室的密闭性；同时还有 UL3000 Fab PLUS 型号可供选择，该型号具有嗅探泄漏检测功能，可用于检测各种工艺气体管道。

此外，UL3000 Fab PLUS 中的 HYDRO 软件可抑制水汽和氢气对氦气泄漏率的影响，进而更早地启动泄漏检测。

新式 UL3000 Fab 具有设计纤薄、提供直观的用户指南和快速呈现测量结果等诸多优势。 请在此处阅读有关 UL3000 Fab 的更多内容

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